背景2


日本標準産業分類は、統計調査の結果を産業別に表示する場合の統計基準として、昭和24年10月に設定されました。
しかし、真空産業は長い間、この分類に登録されておらず、日本真空工業会の登録推進活動の
結果、2002年(平成14年)4月の第11回改定で、登録が告示(総務省)され、同年10月から施行されました。
詳細は、大分類Fの製造業・中分類266の特殊産業用機械製造業・小分類2668 「真空装置・真空機器製造業」で登録されました。

さらに、2007年11月(平成19年)に、情報通信の高度化、経済活動のサービス化の進展、事業経営の多様化に伴う産業構造の変化に適合するよう全面的に見直されました(第12回目の改定)。

第12回改定で日本真空工業会に関わる変更箇所

  大分類 E 製造業、中分類267 半導体・フラットパネルディスプレイ製造装置製造業、
  小分類 2671 半導体製造装置産業(旧2667の一部から)
            2672 フラットパネルディスプレイ製造装置製造業(旧2667の一部から)
            2693 真空装置・真空機器製造業(旧2668から)

2693真空装置・真空機器製造業の内容

主として真空装置、真空ポンプ、真空装置用部品、真空装置附属装置等を製造する事業所。
具体的には、真空冶金装置、真空化学装置、スパッタリング装置、ドライエッチング装置、CVD装置、イオン注入装置、その他の真空装置製造業及び真空ポンプ製造業、真空装置用部品製造業、真空装置用附属機器製造業となります。
 主として半導体製造装置を製造する事業所は小分類 267 [2671]に、フラットパネルディスプレイ製造装置を製造する事業所は小分類 267 [2672]に分類されます。
また、分析機器製造業は小分類 273 [2735]に分類されます。

  参考:日本標準産業分類(平成19年11月改定)
  URL http://www.stat.go.jp/index/seido/sangyo/19index.htm

参考資料:大分類 E 製造業 内容説明(全181頁)