背景2


真空のガス中で直流あるいは高周波プラズマを生じさせ、その中に物質の蒸発を行い、負バイアスを印加した基板上に膜を堆積させる方法。液体を用いる通常の電気メッキ(electroplating)に対して、イオンを用いた乾式メッキということでこのような名前がついている。

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